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氧化钙立磨

氧化钙立磨

氧化钙立磨,主要用(yòng)于氧化钙微粉的生产。氧化钙微粉可(kě)以应用(yòng)在建筑涂料填充料,环保型乳胶漆, 防水腻子,污水处理(lǐ)等领域。桂林鸿程HLMX1100超细立式磨粉机,打破超细粉加工难以规模化生产的瓶颈,可(kě)替代进口超细立磨,具有(yǒu)研磨选粉效率高、维护方便、运营成本低、综合投资成本低、产品质量稳定、高效环保、自动化程度高等显著优势。

氧化钙立磨

氧化钙立磨,主要用(yòng)于氧化钙微粉的生产。桂林鸿程HLMX1100超细立式磨粉机,打破超细粉加工难以规模化生产的瓶颈,具有(yǒu)研磨选粉效率高、维护方便、运营成本低、综合投资成本低、产品质量稳定、高效环保、自动化程度高等显著优势。


产品优势

桂林鸿程氧化钙立磨高效节能(néng) 用(yòng)料层粉磨原理(lǐ),粉磨效率高,能(néng)耗低;单机生产能(néng)力大,可(kě)利用(yòng)低谷電(diàn);立式磨技术及装备是國(guó)家大力倡导的节能(néng)降耗新(xīn)技术,有(yǒu)利于提升企业在本區(qū)域乃至全國(guó)粉體(tǐ)行业领域的竞争实力;
桂林鸿程氧化钙立磨维护方便,运营成本低 (1)磨辊可(kě)用(yòng)液压装置翻出机外,更换辊套衬板及磨机检修空间大,检修作业十分(fēn)方便; (2)磨辊辊套能(néng)翻面使用(yòng),延長(cháng)了耐磨材料的使用(yòng)寿命;
桂林鸿程氧化钙立磨设备适用(yòng)性强,投资省 采用(yòng)二次分(fēn)级,可(kě)生产325目-2500目粉體(tǐ),实现一机多(duō)用(yòng),设备实用(yòng)性强,节约投资成本。
桂林鸿程氧化钙立磨产品质量稳定 (1)料在磨粉机内停留的时间短,易于对产品粒度分(fēn)布和成分(fēn)进行检测,产品质量稳定; (2)产品颗粒形态均匀、粒度分(fēn)布窄、流动性好,产品适应性强;
桂林鸿程氧化钙立磨环保 (1)HLM立磨整个系统震动小(xiǎo),噪音低; (2)系统整體(tǐ)密封,全负压运行,无粉尘外溢,基本可(kě)实现无粉尘車(chē)间;
桂林鸿程氧化钙立磨磨耗低,磨辊、磨盘衬板采用(yòng)特殊材质,使用(yòng)寿命長(cháng);
桂林鸿程氧化钙立磨自动化程度高:自动控制技术采用(yòng)了德國(guó)Siemens系列PLC,配备自动控制系统,可(kě)实现遠(yuǎn)程控制,操作简便,車(chē)间基本可(kě)实现无人作业,节约运营成本。
桂林鸿程氧化钙立磨开机前无需在磨盘上布料,并且磨机可(kě)空载启动,免除开机难的烦恼;

工作原理(lǐ)

HLMX立磨系统由主机、给料机、分(fēn)级机、鼓风机、管道装置、储料斗、電(diàn)控系统、收集系统等组成。

HLMX立式磨粉机采用(yòng)标准化模块式设计制造加压装置,随着立磨产能(néng)的增加,相应的增加立式磨粉机磨辊数,可(kě)采用(yòng)2辊、3辊或者4个磨辊,最多(duō)可(kě)采用(yòng)6个磨辊进行排列组合,以最少的标准模块部件。形成多(duō)种能(néng)力的系列产品,满足不同产品细度和产量的要求。

立磨工作原理(lǐ)图

電(diàn)机驱动减速机带动磨盘转动,物(wù)料在离心力的作用(yòng)下向磨盘四周移动进入磨辊与磨盘之间,在磨辊压力作用(yòng)下,物(wù)料受到挤压、研磨和剪切力而被粉碎,磨碎的粉末被鼓风机的气流吹到主机上方的分(fēn)级机进行筛分(fēn),粒度过粗者仍落入主机内重磨,细度合乎规格者随风流入脉冲收尘器,收集后经出粉管排出即為(wèi)成品,净化后的气流经脉冲收集器上的管道流入鼓风机后排入大气。


工程案例

  • 氧化钙立磨

合山(shān)年产10万吨氧化钙立磨机制粉项目

氧化钙制粉项目业主拥有(yǒu)丰富的石灰石资源,且品质优良,是非常好的氧化钙生产原料。业主的氧化钙微粉项目主要用(yòng)于可(kě)作建筑涂料填充料,环保型乳胶漆, 防水腻子,污水处理(lǐ)等领域。该客户厂區(qū)配置HLMX1100高细立式磨粉机一台,HLMX立磨用(yòng)于生产325-1500目氧化钙粉。1250目D97,产量可(kě)达6吨每小(xiǎo)时。

生产情况

本设备型号和台数:  1台HLMX1100高细立式磨粉机

加工原料:  氧化钙

成品细度:  325-1500目

设备产量:  325目D97产量15-18T/h;600目D97产量10-12T/h ;800目D97产量8-10T/h

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技术参数

HLMX氧化钙微粉超细立式磨规格、技术参数表

型号

Model

磨盘直径(mm)

Ring Inner Moisture

入磨物(wù)料水分(fēn)(%)

Material Moisture

成品细度(μm)

Fineness

产量(T/h)

Capacity

HLMX10001000≤5%



10-45μm最细可(kě)达5μm(配二次分(fēn)级系统)

0.045mm-0.01mm,0.005mm(with secondary classifier)



3-12
HLMX11001100≤5%4-14
HLMX13001300≤5%5-16
HLMX15001500≤5%7-18
HLMX17001700≤5%8-20
HLMX19001900≤5%10-25
HLMX22002200≤5%15-35
HLMX24002400≤5%20-40

注:由于各地物(wù)料不同,产量不同,以上数据仅供参考。

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